水素移動型不斉還元触媒とは
水素移動型不斉還元触媒ラインナップ
改良型触媒の効果
改良型触媒の効果(触媒スクリーニング)
水素源と反応性の関係
| 水素源 | 反応系 | 活性 （基質/触媒モル比） |
溶媒 |
|---|---|---|---|
| HCO2M (M = K, Na) | 均一 | 高 ～ 20,000 | アルコール溶媒、または 水+水と混和する溶媒 |
| HCO2M (M = K, Na) | 二層 | 高 ～ 20,000 | 水のみ、または 水+水と混和する溶媒 |
| HCO2H/N(C2H5)3 | 均一 | 中 ～ 1,000 | 添加可能 |
| 2-プロパノール | 均一 | 低 ～ 200 | 2-プロパノール |
反応システムの違いにおける長所と短所
| 水素源と反応系 | 長所 | 短所 |
|---|---|---|
| HCO2M (M = K, Na) (均一） |
|
|
| HCO2M (M = K, Na) (二層） |
|
|
| HCO2H/N(C2H5)3 (均一） |
|
|
| 2-プロパノール (均一） |
|
|
水素源が HCO2Mの反応(均一, アルコール/水溶媒混合系)
水素源が HCO2Mの反応(二層, 水/有機溶媒混合系)
水素源がHCO2Hの反応
水素ガスを水素源に使用する場合
関東化学出願特許
| 特許番号 | 発明の名称 |
|---|---|
| 特許第3504254 | 光学活性アミノアルコールおよびその中間体の製造方法 |
| 特許第3630002 | 光学活性1，2-ジオール類の製造方法 |
| 特許第4309686 | 光学活性化合物の製造方法 |
| 特許第4718786 | 含窒素ヘテロ環をもつ光学活性アルコールの製造方法 |
| 特許第4744091 | 光学活性ニトロ化合物およびシアノ化合物の製造方法 |
| 特許第5087395 | スルホナート触媒およびそれを利用したアルコール化合物の製法 |
| 特許第5172124 | 2位に置換基を有するキヌクリジノール類の製造方法 |
| 特許第5207096 | 光学活性な含窒素化合物の製造方法 |
| 特許第5656474 | 脂肪族光学活性フルオロアルコールの製造方法 |
| 特許第5680878 | 光学活性アルコールの製造方法 |
| 特許第5727127 | 不斉触媒およびこれを用いた光学活性アルコールの製造方法 |
