SWPRシリーズ

  • ドライエッチング残渣やレジストの除去が可能です。
  • 各種Al系、Cu系の配線材料や層間絶縁膜にほとんどダメージを与えません。
  • 純水リンスが可能で、IPAリンスが必要ありません。
  • ヒドロキシルアミンを含みません。

製品一覧

製品名 分類 適用プロセス 残渣
除去性
レジスト
除去性
処理温度
(℃)
処理時間
(分)
SWPR-207 アルカリ性 Al配線、ビアホール 40~70 5~20
SWPR-301 酸性 Al配線 25~40 1~5
SWPR-501 中性 Cu配線、ビアホール 25~40 5~20



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